HgCdTe分子束外延In掺杂研究
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TN215

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中国科学院知识创新工程、国家自然科学基金 (编号 6 942 5 0 0 2 ),国家高技术发展计划 (编号 86 3-30 7-16 -10 )资助项目


INDIUM DOPING ON MBE GROWN HgCdTe
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    报道了用 MBE方法生长掺 In的 n型 Hg Cd Te材料的研究结果 .发现 In作为 n型施主在 Hg Cd Te中电学激活率接近 10 0 % ,其施主电离激活能至少小于 0 .6 m e V.确认了在制备红外焦平面探测器时有必要将掺杂浓度控制在~ 3× 10 1 5 cm- 3水平 .比较了高温退火前后 In在 Hg Cd Te中的扩散行为 ,得出在 40 0℃温度下 In的扩散系数约为10 - 1 4 cm2 / s,并确认了 In原子作为 Hg Cd Te材料的 n型掺杂剂的可用性和有效性 .

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引用本文

巫艳,王善力,陈路,于梅芳,乔怡敏,何力. HgCdTe分子束外延In掺杂研究[J].红外与毫米波学报,2001,20(3):174~178]. WU Yan WANG Shan Li CHEN Lu YU Mei Fang QIAO Yi Min HE Li. INDIUM DOPING ON MBE GROWN HgCdTe[J]. J. Infrared Millim. Waves,2001,20(3):174~178.]

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  • 最后修改日期:2000-10-17
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