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磁控溅射法制备的PZT非晶薄膜光学性质研究
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O484.41

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国家重点基础研究 (G0 0 1CB3 0 95 )


OPTICAL PROPERTIES OF PZT AMORPHOUS THIN FILMS PREPARED BY RF MAGNETRON SPUTTERING
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    采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了PbZrxTi1-xO3(PZT)(x=0．52)非晶薄膜，并测量了200～1100nm的紫外．可见．近红外透射光谱．基于薄膜的结构和多层结构的透射关系，发展了仅有6个拟合参数的光学常数计算模型．利用该模型，可以同时获得薄膜在宽波段范围内的光学常数和厚度，得到折射率的最大值为2．68，消光系数的最大值为0．562，拟合薄膜厚度为318．1nm．根据Tauc′s法则，得到PZT非晶薄膜的直接禁带宽度为3．75eV．最后，利用单电子振荡模型成功地解释了薄膜的折射率色散关系．

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引用本文

胡志高 赖珍荃 黄志明 王根水 石富文 褚君浩.磁控溅射法制备的PZT非晶薄膜光学性质研究[J].红外与毫米波学报,2004,23(3):181~184188]. HU Zhi-Gao, LAI Zhen-Quan, HUANG Zhi-Ming, WANG Gen-Shui SHI Fu-Wen, CHU Jun-Hao. OPTICAL PROPERTIES OF PZT AMORPHOUS THIN FILMS PREPARED BY RF MAGNETRON SPUTTERING[J]. J. Infrared Millim. Waves,2004,23(3):181~184188.]

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